インテルで日常的に使用されている用語
用語
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22nm 3D トライゲート・トランジスター
インテルの 3D トライゲート・トランジスターは、3D 構造でシリコンチャネルの周りを包む 3 つのゲートを使用しており、これまでにないパフォーマンスとエネルギー効率の組み合わせを実現します。インテルは、スマートフォンやタブレットなどの携帯用デバイスで、他にはない超低消費電力を実現するとともに、ハイエンド・プロセッサーに通常期待されるような高いパフォーマンスを発揮する新しいトランジスターを設計しました。
A-C
チャネル
トランジスタが「オン」状態にあるときに電流が流れるトランジスタのゲート下の領域。
チップ
集積電子回路を含み、形状は小さく薄い正方形または長方形。ダイは、シリコンのウエハー上に一括して形成される。チップは、パッケージ化されたダイを指す。チップは、プロセッサーやマイクロプロセッサーとも呼ばれる。マイクロプロセッサーは、コンピューター、サーバー、通信製品、その他のデジタルデバイスの頭脳である。
Circuit (サーキット)
機能を実行するために、特定の構成でワイヤーによって相互接続されたトランジスタのネットワーク。
Cleanroom (クリーンルーム)
チップが製造される高清浄度クリーンルーム。クリーンルームの空気は一般的な病院の手術室に比べ、数千倍もクリーンである。
CAD (コンピューター支援設計)
集積回路の設計に使用されるコンピューター化されたワークステーションとソフトウェア。
D-F
Die (ダイ)
チップの代替名。通常、パッケージ前のものを表す。「Chip (チップ)」も参照。
Etching (エッチング)
材料の選択部を除去し、チップ上にパターン化された層を確定すること。
Fab (ファブ)
インテルがシリコンチップを製造する「製造施設」の短縮形。
Fabrication (ファブリケーション)
チップを作る工程。
Front-opening unified pod (前面開閉式ウエハー用保管・搬送容器、FOUP)
ファブ内の自動化システムの一部として、ウエハーを保管し、搬送する容器。
G-J
Gate (ゲート)
トランジスタの入力制御領域。負電荷または正電荷が印加され、電流を遮断または許容する。
Gate dielectric (ゲート誘電体)
ゲートをチャネルから隔離する、ゲートの下の薄い層。
High-k 材料 (高誘電率材料)
ゲート誘電体として二酸化ケイ素の代替となる材料。絶縁性が高く、ゲートとチャネルの間に高い電界効果を発生させる。どちらも、高性能なトランジスタに求められる特性である。また、High-k 材料は、二酸化ケイ素と同じ望ましい特性を維持しながら、より厚みがあるため、電流漏れを大幅に低減できる。
K-O
Mask (マスク)
ウエハーに積層回路パターンを印刷するために、製造時に使用されるステンシル状のパターン。
Moore's law (ムーアの法則)
1965年、ゴードン・ムーアはシリコン上のトランジスタの数は毎年倍増すると予測し、これは後にムーアの法則と呼ばれるようになった。1975年、ムーアは業界がコンピューター・チップに実装できるトランジスタの数は、数年ごとに倍増すると予測に変更を加えた。トランジスタの数が増加するにつれ、トランジスタあたりのコストは低下する。
Nanometer (ナノメーター)
10 億分の 1 メートル。
P-R
Photolithography (フォトリソグラフィー)
紫外線とマスクを使用して、目的のパターンを定め、シリコンウエハー上に特定の材料パターンを確定するプロセス。
Photoresist (フォトレジスト)
紫外線を照射すると可溶性になる物質。写真フィルムに似て紫外線に敏感だが、特定のエッチングの化学薬品に耐性がある。チップ製造時の回路パターンを確定するために使用される。
Polycrystalline silicon (多結晶シリコン)
ポリシリコンとも呼ばれる多くの結晶で構成されたシリコン。この導電性材料は、チップ上の相互接続層として使用されます。
S-U
Semiconductor (半導体)
電流を伝導させたり、電流の流れを妨げるように変化させることができる材料 (シリコンなど)。
半導体
一般的な海浜の砂の主成分で、チップが製造されるウエハーを作る際に使われる要素。シリコンは天然の半導体で、地球上で酸素に次いで多い元素である。
Silicon ingot (シリコンインゴット)
純度 99.9999% のシリコンで形成されたシリンダー。インゴットは、ウエハーと呼ばれる薄いシリコーンディスクにスライスされる。
Strained silicon (歪みシリコン)
格子内の原子間距離を変化させるために、伸張または圧縮されたシリコンの層。これにより、トランジスタを介した電子の移動を制限する原子間力を低減する。これにより、モビリティーの向上、チップ性能の向上、消費電力の削減が可能となる。
Transistor (トランジスター)
電気の流れを制御するスイッチの一種。チップには、数百万個から数十億個のトランジスタが含まれている。
Ultrabook™
2011年6月に Computex で発表された、Ultrabook™ デバイスの仕様、インテル® Core™ プロセッサー・ファミリーに加えられたロードマップの変更により、この新しい種類のデバイスが実現した。Ultrabook のシステムは、薄型軽量でありながら、最高のパフォーマンス、応答性、セキュリティー、バッテリー持続時間を兼ね備えており、デスクトップ / ノートブック PC とタブレットのギャップを埋めている。
V-Z
Wafer (ウエハー)
円筒形の水晶インゴットからスライスした薄いシリコンディスク。集積回路を構築するベース材料として使用。
Wafer Sort (ウエハーソート)
完全に機能していないウエハー上のチップを識別する電気的テスト手順。
Zettabyte (ゼタバイト、ZB)
1 セクスティリオン・バイトに相当する演算情報の単位。(ゼタバイトには 0 が 21 個付き、4.4 兆本の HD ムービーを保存するのに十分な容量である。) 他の演算単位については、ギガバイトを参照。
その他のオンライン展示を見る
インテル博物館に行けない場合でも、これらのオンライン版展示物によってインテルの歴史を振り返ることができます。
ロバート・ノイス
インテルの共同創設者であり、集積回路の共同発明者でもある彼は、テクノロジーの進歩に多くの貢献をしました。
ムーアの法則
インテルの共同創設者に会い、彼の大胆な予測が現在進行中のイノベーションをどのように導いているのかをご覧ください。
インテル® 4004 チップ
インテル初のマイクロプロセッサーの物語を知り、それがテクノロジーと世界をどのように変えたのかを学びましょう。
シリコンチップ製造
精製シリコンから日常生活に役立つテクノロジーまで、これまでに製造された中でも最も複雑なデバイスであるシリコンチップの製造方法をご覧ください。
インテルの年次報告書と記念誌
1968年に始まったインテルの取り組みを再現しましょう。